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  • HDSRO0.5-50T化工行業超純水設備
    化工行業超純水設備

    化工行業中的超純水主要應用于電池行溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純,廢物回收等場合,對于水質要求相對來說不是太高,純水電導率從0.1uS/cm-20uS/cm就基本上能滿足要求。我們公司可根據客戶對水質的具體要求,采用反滲透,EDI等超純水生產工藝的不同組合,生產出即經濟實用,又能滿足客戶要求的化工行業超純水設備。

    更新時間:2021-12-08型號:HDSRO0.5-50T
  • HDSRO+EDI3T/H線路板清洗超純水設備
    線路板清洗超純水設備

    線路板清洗超純水設備*工藝:采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式,這是一種制取超純水的新工藝,也是一種環保,經濟,發展潛力巨大的超純水制備工藝,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

    更新時間:2021-12-10型號:HDSRO+EDI3T/H
  • HDRO6T/H電鍍行業純水設備
    電鍍行業純水設備

    電鍍行業純水設備包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環利用廢水零排放系統。通常系統由超濾裝置,反滲透裝置,離子交換裝置,EDI裝置等組合而成,以滿足電鍍行業對水質的要求。

    更新時間:2021-12-10型號:HDRO6T/H
  • HDRO+EDI0.5-50T/H光電行業清洗超純水設備
    光電行業清洗超純水設備

    光電行業清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

    更新時間:2021-12-10型號:HDRO+EDI0.5-50T/H
  • HDRO+EDI0.5-50T/H二級反滲透加EDI超純水設備
    二級反滲透加EDI超純水設備

    二級反滲透加EDI超純水設備控制系統: 整套系統系統有兩種運行模式:手動與自動模式; 原水箱缺水時,整個系統不能工作; 純水箱滿水時,整個系統停止工作; 反滲透每運行2小時(可自行設定)自動沖洗一次; 純水箱缺水EDI系統不能工作; 超純水箱滿水時,EDI膜堆停止工作; EDI膜堆受EDI濃水流量開關控制,流量達不到要求時,EDI膜堆自動停機; 自來水缺水時可以自動補水。

    更新時間:2021-12-10型號:HDRO+EDI0.5-50T/H
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