• HTRO+EDI0.5-50T半導體產品清洗超純水設備
    半導體產品清洗超純水設備

    半導體產品清洗超純水設備工藝:預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

    更新時間:2020-03-22型號:HTRO+EDI0.5-50T
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